光刻膠行業(yè)關注度持續(xù)上升 多家上市公司回復投資者相關問題

    本報記者 許潔 見習記者 寇佳麗

    光刻膠再次成為資本市場的焦點之一，行業(yè)熱度持續(xù)上升。同花順數(shù)據(jù)顯示，8月28日-9月15日，光刻膠概念指數(shù)（885864.TI）由2115.07點升至2540.38點，18日內(nèi)漲幅超20.1%。

    據(jù)《證券日報》記者不完全統(tǒng)計，9月15日當天，A股市場有7家上市公司發(fā)布的公告涉及光刻膠相關內(nèi)容，11家公司回應了光刻膠相關話題。

    例如，南大光電在回復投資者提問時表示，公司研發(fā)的ArF光刻膠目前已在下游客戶的產(chǎn)品上通過驗證；容大感光回復投資者稱，公司半導體光刻膠產(chǎn)品的主要客戶有揚杰科技、華微電子等。

    “資本市場對光刻膠行業(yè)的關注說明業(yè)內(nèi)各方看好中國光刻膠的投資前景和產(chǎn)業(yè)發(fā)展。作為芯片生產(chǎn)過程中不可或缺的關鍵材料，半導體光刻膠也是國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)鏈的短板之一。”環(huán)業(yè)投資集團（IPG）中國區(qū)首席經(jīng)濟學家柏文喜對《證券日報》記者表示，中國半導體產(chǎn)業(yè)近來取得的顯著進展，令外界對這一產(chǎn)業(yè)鏈各個細分支、多環(huán)節(jié)給予了更高關注與期待。

    “國內(nèi)光刻膠行業(yè)正從低端市場向高端市場擴張。投資者對該行業(yè)的持續(xù)關注，主要源自對中國芯片制造的良好預期。”深度科技研究院院長張孝榮對《證券日報》記者表示。

    按應用領域劃分，光刻膠可分為PCB光刻膠、LCD顯示面板光刻膠、半導體光刻膠三大類，技術難度依照上述順序遞增。

    半導體光刻膠是光刻機“雕刻”晶圓必不可少的化工產(chǎn)品。對應不同曝光波長，主要有g線、i線、KrF、ArF和EUV光刻膠五大品類（波長范圍依次減小，技術難度依次增加）。

    平安證券近日發(fā)布研報指出，我國g線和i線光刻膠的國產(chǎn)化率均為30%，KrF光刻膠的國產(chǎn)化率為10%，ArF光刻膠約為3%，EUV光刻膠尚處研發(fā)中。

    “光刻膠與晶圓制造工藝深度綁定，隨著曝光波長的降低，留給光刻膠的工藝窗口會越來越窄，特別是KrF或ArF光刻膠，最好在晶圓工藝開發(fā)時就同步導入，否則工藝定型后再對使用的光刻膠進行平替會非常困難。國內(nèi)現(xiàn)階段很多成熟產(chǎn)品線的工藝都是根據(jù)國外光刻膠定型的，這也是國產(chǎn)半導體光刻膠市占率低的主要原因。”國內(nèi)某智庫一位不便具名的專業(yè)人士對記者表示，過去，國內(nèi)晶圓廠更多選擇海外供應商進行合作；隨著我國光刻膠企業(yè)技術水平的不斷提升，國內(nèi)晶圓廠在開發(fā)工藝時也會為國內(nèi)光刻膠企業(yè)提供更多合作機會。

（編輯 白寶玉）