早盤(pán)光刻膠板塊逆市漲逾3%，機(jī)構(gòu)：與中國(guó)經(jīng)濟(jì)基本面相關(guān)的資產(chǎn)正在逐步企穩(wěn)

    本報(bào)記者 張穎

    周二（9月5日），三大股指震蕩回落。截至上午收盤(pán)，上證指數(shù)跌幅達(dá)0.63%，報(bào)3157.16點(diǎn)；深證成指和創(chuàng)業(yè)板指跌幅分別為0.46%和0.05%；滬深兩市合計(jì)成交額5235.7億元，總體來(lái)看，兩市個(gè)股跌多漲少，近3400只個(gè)股下跌。    

    從資金面來(lái)看，9月5日上午，北向資金凈賣(mài)出額達(dá)44.61億元。另外，截至9月4日，滬深京三市的兩融余額合計(jì)15704.75億元，較前一交易日增加44.32億元。其中，融資余額合計(jì)14761.04億元，較前一交易日增加38.23億元；融券余額為941.44億元，較前一交易日增加6.09億元。

    表：9月4日申萬(wàn)一級(jí)行業(yè)兩融交易情況：    

    制表：張穎

    對(duì)于后市，業(yè)內(nèi)機(jī)構(gòu)表示，A股盈利探底，復(fù)蘇拐點(diǎn)將至。反彈時(shí)刻或已來(lái)臨。

    中銀證券認(rèn)為，A股盈利探底，復(fù)蘇拐點(diǎn)將至。8月PMI數(shù)據(jù)顯示內(nèi)需向好的積極因素不斷增加，產(chǎn)需雙雙回暖帶動(dòng)8月經(jīng)濟(jì)預(yù)期持續(xù)回升，其中內(nèi)需回暖預(yù)期下企業(yè)采購(gòu)意愿回升，庫(kù)存持續(xù)去化。但也需要看到，當(dāng)前內(nèi)需回暖的基礎(chǔ)仍有待鞏固，從業(yè)人員指數(shù)仍在低位徘徊，內(nèi)需實(shí)質(zhì)性企穩(wěn)仍需要一段時(shí)間的政策支撐。根據(jù)最新披露的中報(bào)數(shù)據(jù)，A股盈利增速仍處于尋底過(guò)程之中，但結(jié)合我們的盈利預(yù)測(cè)模型，工業(yè)企業(yè)利潤(rùn)增速已經(jīng)出現(xiàn)了明顯觸底回升跡象，預(yù)計(jì)A股盈利將在下半年迎來(lái)拐點(diǎn)。

    民生證券表示，國(guó)內(nèi)經(jīng)濟(jì)進(jìn)一步向上的動(dòng)能正在孕育，與中國(guó)經(jīng)濟(jì)基本面相關(guān)的資產(chǎn)正在逐步企穩(wěn)，海外的緊縮預(yù)期正在放緩，A股的反彈時(shí)刻或已來(lái)臨。在結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)型、全球競(jìng)爭(zhēng)下，具備供給約束且有需求的大宗商品無(wú)疑是最佳配置品種：油、銅、鋁、煤炭、油運(yùn)、鋼鐵、貴金屬是首要推薦，其年度時(shí)刻正在來(lái)臨。第二，金融板塊在基本面見(jiàn)底時(shí)期有明顯超額收益，值得關(guān)注（銀行、保險(xiǎn)、券商）。房地產(chǎn)、建筑同樣值得關(guān)注。中國(guó)優(yōu)勢(shì)產(chǎn)業(yè)無(wú)疑也是做多中國(guó)的品種：專(zhuān)業(yè)機(jī)械、工程機(jī)械、機(jī)械零部件；以及高端制造領(lǐng)域：新能源車(chē)（整車(chē)、鋰電）、光伏。

    國(guó)盛證券分析認(rèn)為，在多重政策利好的持續(xù)刺激下，周一市場(chǎng)再度迎來(lái)普漲行情。利好政策的疊加，從量變到質(zhì)變，需要時(shí)間去催化，市場(chǎng)信心的恢復(fù)同樣要經(jīng)歷時(shí)間的洗禮。從政策層面上很難有大的利空出現(xiàn)，后續(xù)增強(qiáng)信心的關(guān)鍵就在于經(jīng)濟(jì)數(shù)據(jù)是否出現(xiàn)好轉(zhuǎn)跡象，若經(jīng)濟(jì)數(shù)據(jù)出現(xiàn)改善，則市場(chǎng)或有一波較好的上漲行情。

    熱點(diǎn)方面，截至9月5日上午收盤(pán)，光刻膠、電子化學(xué)品等板塊漲幅居前。另外，房地產(chǎn)服務(wù)、租售同權(quán)等板塊跌幅居前。

    具體看，截至9月5日上午收盤(pán)，光刻膠板塊漲幅居首，達(dá)3.22%。其中，廣信材料、同益股份等概念股均20CM漲停。    

    對(duì)此，華金證券分析認(rèn)為，光刻膠品種眾多，依據(jù)工藝條件選取相應(yīng)品種。光刻膠能夠利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)過(guò)曝光、顯影等光刻工藝，將所需微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上。建議關(guān)注國(guó)內(nèi)研發(fā)能力強(qiáng)，光刻膠產(chǎn)品通過(guò)驗(yàn)證且已進(jìn)入半導(dǎo)體制造廠商供應(yīng)鏈龍頭公司。

（編輯 喬川川）