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國(guó)林科技:公司的半導(dǎo)體專用臭氧系統(tǒng)設(shè)備能夠產(chǎn)生高濃度、超純凈的臭氧

2026-01-21 18:03  來(lái)源:證券日?qǐng)?bào)網(wǎng) 

    證券日?qǐng)?bào)網(wǎng)訊 ?1月21日,國(guó)林科技在互動(dòng)平臺(tái)回答投資者提問(wèn)時(shí)表示,公司的半導(dǎo)體專用臭氧系統(tǒng)設(shè)備能夠產(chǎn)生高濃度、超純凈的臭氧,臭氧在電子工業(yè)領(lǐng)域被廣泛用于形成CVD及ALD薄膜、氧化物生長(zhǎng)等工藝環(huán)節(jié)。在3D?NAND存儲(chǔ)芯片結(jié)構(gòu)中,臭氧因其高氧化性、清潔效率和環(huán)保特性,能夠滿足半導(dǎo)體制造對(duì)精度、缺陷控制和材料兼容性的嚴(yán)苛要求,從而實(shí)現(xiàn)納米級(jí)均勻氧化層的形成。

(編輯 楚麗君)

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